谈述控制系统基于.NET反应离子刻蚀设备制约系统设计与实现
最后更新时间:2024-02-06
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论文导读:监控更加实时和直观。论文以设备管理模块为例,详细阐述了RIE设备制约系统核心功能模块的设计与实现。最后,本论文介绍了RIE设备制约系统的测试及实际运用,运用情况表明该系统是可行及有效的。与其他同类系统相比,本论文的探讨工作主要有以下特点:
本论文由www.7ctime.com,需要论文可以联系人员哦。摘要3-5
ABSTRACT5-12
第一章 绪论12-17
3.
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4.
5.
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第六章 总结与展望88-90
致谢92-93
作者攻读学位期间发表的论文93-94
附件94-96
1.RIE设备制约系统的功能主要包括RIE设备的运转制约、运转状态监控及运转结果
摘要:半导体行业已经历了半个多世纪的进展,广泛运用于工业、军事、通讯等各个领域,与人们的生活已经密不可分。半导体设备则是半导体行业持续快速进展的原动力,是半导体行业继续遵循摩尔定律前进的决定性因素。反应离子刻蚀(Reactive-Ion Etching,RIE)设备是半导体行业中的核心设备,承担着晶圆处理历程中的关键性工艺,与此同时,RIE设备制约系统作为用户直接和硬件设备交互的接口也变得尤为重要。本论文工作以某国际领先RIE设备制造厂商(以下简称Z公司)的实际项目为背景。Z公司的RIE设备制约系统采取B/S架构,通过内嵌的ActiveX控件获取数据并通知JaScript更新页面,开发历程中利用了多种语言,结构显得复杂;页面切换时也常有延迟发生,表示层主要利用文字和图片方式实现人机交互,不利于复杂多变信息的快速传递。这些有着的不足使该制约系统无法很好地应对RIE设备快速进展带来的挑战,成为Z公司RIE设备制约系统进展的瓶颈。针对上面陈述的不足,本论文首先对RIE设备处理晶圆的历程及原有RIE设备制约系统有着的不足进行了深入浅析,在.Net Framework4.0等相关技术探讨的基础上,设计并实现了一种新的RIE设备制约系统。该系统采取C/S架构代替了原来的B/S架构,采取WCF服务的方式封装设备实时状态数据管理、非实时设备信息管理和设备操作命令等功能,以动画方式展示晶圆处理的历程,使设备状态的观测和监控更加实时和直观。论文以设备管理模块为例,详细阐述了RIE设备制约系统核心功能模块的设计与实现。最后,本论文介绍了RIE设备制约系统的测试及实际运用,运用情况表明该系统是可行及有效的。与其他同类系统相比,本论文的探讨工作主要有以下特点:1. RIE设备制约系统的功能主要包括RIE设备的运转制约、运转状态监控及运转结果浅析,部署在工厂的局域网环境中,具有较强的专有性和封闭性。本论文提出一种基于C/S的RIE设备制约系统架构,同时针对多客户端分别制约设备腔体的进展走势,设计和实现了设备实时状态数据管理服务,有效地解决了原有基于B/S架构系统的开发效率和运转效率不足。2. RIE设备制约系统体现层通过设备俯视图和剖面图来展现多个复杂部件的多种状态并接收操作命令,由此体现层的UI需要较强的能力。本论文提出基于WPF的UI可视化机制取代原有的基于图片的网页展示方式。运用情况表明,基于这种UI可视化机制的UI开发效率提升近30%。另外,本论文在体现层中还采取了MVVM架构方式,有效地降低了视图和业务逻辑的耦合性。3. RIE设备制约系统的表示层和服务层有频繁且大数据量的交互,本论文采取WCF技术取代原有的Web Service技术,选择TCP/IP作为通信协议,设计并实现了设备实时状态数据管理服务、非实时设备信息管理服务和设备操作命令服务。测试数据表明新的基于WCF的技术和设备实时状态管理服务提升了约40%的数据通信效率。4. RIE设备制约系统需要对晶圆的处理历程进行实时监控,原有制约系统采取文字和图片的方式显示,未能实时反映闸门状态及机械臂运转状态。本论文提出了一种基于动画的晶圆处理历程监控方式,设计和实现了基于设备实时数据驱动的闸门开关以及机械臂旋转、伸缩在不同处理腔体之间传递晶圆的动画。运用情况表明,基于动画的晶圆处理历程监控方式提升了监控效率,极大地增强了用户体验。关键词:.NET论文RIE设备制约系统论文WPF论文WCF论文动画论文本论文由www.7ctime.com,需要论文可以联系人员哦。摘要3-5
ABSTRACT5-12
第一章 绪论12-17
1.1 探讨背景和作用12-14
1.2 国内外探讨近况14
1.3 论文探讨的目标及主要内容14-15
1.4 论文的组织结构及其章节编排15-17
第二章 RIE设备制约系统相关技术综述17-292.1 WPF技术18-23
2.1.1 WPF组成架构18-19
2.1.2 基于WPF的UI可视化19
2.1.3 XAML19-21
2.1.4 WPF的数据绑定21-22
2.1.5 WPF中的动画22-23
2.2 WCF技术23-252.1 WCF概述23-24
2.2 WCF服务的调用流程24-25
2.3 基于MVVM方式的Capburn.Micro框架25-28
2.3.1 MVVM方式25-27
2.3.2 Capburn.Micro框架27-28
2.4 本章小结28-29
第三章 RIE设备制约系统的架构及设计29-513.1 RIE设备制约历程及系统需求浅析29-33
3.1.1 RIE设备概述29-30
3.1.2论文导读:
RIE设备制约历程30-323.
1.3 RIE设备制约系统需求浅析32-33
3.2 RIE设备制约系统的架构33-383.
2.1 架构目标33-34
3.2.2 逻辑架构视图34-38
3.3 服务层的设计38-443.1 设备实时状态数据管理服务39-42
3.2 非实时设备信息管理服务42-43
3.3 设备操作命令服务43-44
3.4 表示层的设计44-50
3.4.1 基于MVVM方式的文件组织结构44-45
3.4.2 表示层中设备实时状态数据的管理45-47
3.4.3 设备观测和制约功能的详细设计47-50
3.5 本章小结50-51
第四章 基于WPF的晶圆处理历程的动画设计和实现51-644.1 原有RIE制约系统对晶圆处理历程的展现51-53
4.2 晶圆处理历程的动画设计53-58
4.2.1 基于数据驱动的动画设计53-54
4.2.2 闸门动画的设计54-55
4.2.3 机械臂动画的设计55-58
4.3 晶圆处理历程的动画实现58-624.
3.1 闸门动画的实现58-60
4.3.2 机械臂动画的实现60-62
4.4 动画运用效果62-634.5 本章小结63-64
第五章 RIE设备制约系统的实现与验证64-885.1 RIE设备制约系统的实现64-77
5.1.1 实现环境64-65
5.1.2 服务层的实现65-69
5.1.3 表示层的实现69-77
5.2 RIE设备制约系统的测试77-835.
2.1 测试环境77
5.2.2 功能测试77-80
5.2.3 性能测试80-83
5.3 RIE设备制约系统的运用83-875.
3.1 运用概述83
5.3.2 运转实例83-87
5.4 本章小结87-88第六章 总结与展望88-90
6.1 本论文工作总结88-89
6.2 下一步的工作89-90
参考文献90-92致谢92-93
作者攻读学位期间发表的论文93-94
附件94-96