免费论文查重: 大雅 万方 维普 turnitin paperpass

研讨增透膜PECVD技术制备超宽带增透膜技巧

最后更新时间:2023-12-30 作者:用户投稿原创标记本站原创 点赞:6233 浏览:19583
论文导读:沉积的薄膜在550nm处折射率为1.37,消光系数为4*10-4,是一种较好的低折射率材料;2)采取PECVD技术在硅基底和K9玻璃上沉积SiNx:H薄膜。测试结果表明,薄膜最高折射率为1.97,消光系数小于10-5。随着SiH4气体流量的增加,薄膜折射率增加,同时薄膜中会引入更多的非晶硅成份使消光系数增加。随着N2气体含量的增加,所沉积的薄膜成份趋
摘要:等离子体增强化学气相沉积(Plaa Enhanced Chemical Vapor Deposition即PECVD)作为一种光学薄膜沉积技术逐渐被人们用来制备大面积、高损伤阂值的、致密的高质量光学薄膜,如光学滤光片,减反射薄膜等。本论文采取PECVD技术在硅片和K9玻璃上分别沉积光学薄膜,探讨了低折射率、高折射率、梯度折射率薄膜的光学特性,浅析了不同工艺参数对光学薄膜的折射率、折射率轮廓、消光系数的影响。针对超宽带增透膜,系统探讨了超宽带增透膜的设计策略,并制备了超宽带增透膜。得到如下探讨结果:1)采取PECVD技术在硅基底上沉积SiO2薄膜。测试结果表明,在SiH4和N2O反应前驱物中增加C2F6气体可以降低薄膜的折射率。当基底温度为300℃、射频功率为200W、工作真空度为20Pa、三种气体流量分别为60sccm、40sccm、30sccm时,沉积的薄膜在550nm处折射率为1.37,消光系数为4*10-4,是一种较好的低折射率材料;2)采取PECVD技术在硅基底和K9玻璃上沉积SiNx:H薄膜。测试结果表明,薄膜最高折射率为1.97,消光系数小于10-5。随着SiH4气体流量的增加,薄膜折射率增加,同时薄膜中会引入更多的非晶硅成份使消光系数增加。随着N2气体含量的增加,所沉积的薄膜成份趋向Si3N4薄膜;3) MATLAB模拟结果表明,渐变折射率可使增透膜透过率曲线更平滑,由此本论文以SiH4为主体前驱物,其流量固定为40sccm,将N2和N20气体流量比以0:50逐步增加到50:0,来沉积SiOxNy渐变折射率膜层,测试结果表明随着N2和N20气体流量比增加,其折射率在1.46与1.97间变化;4)用MATLAB软件结合傅立叶变换法、混和设计法、遗传算法设计了带宽为450nm-900nm的含渐变折射率膜层的超宽带增透膜,峰值透过率为99.7%,平均透过率为98.8%。采取PECVD技术在K9玻璃上双面沉积由SiOF、SiNx和SiOxNy三种材料组成的超宽带增透膜,其峰值透过率98.9%,平均透过率为9

6.8%。关键词:薄膜论文PECVD论文超宽带增透膜论文渐变折射率论文

本论文由www.7ctime.com,需要论文可以联系人员哦。摘要3-4
Abstract4-8
1 绪论8-19

1.1 PECVD技术探讨近况8-10

1.2 PECVD的原理和运用10-14

1.2.1 PECVD的原理10-12

1.2.2 PECVD在光学薄膜中的运用12-14

1.3 超宽带增透膜的探讨近况14-15

1.4 渐变折射率薄膜的探讨近况15-17

1.5 本论文探讨的主要内容17-19

2 课题案例和可行性论证19-25

2.1 课题的技术路线19-20

2.2 案例可行性论证20-24

2.1 PECVD制备光学薄膜稳定性实验20-21

2.2 PECVD制备渐变折射率薄膜可行性实验21-24

2.3 所需的实验条件24

2.4 预期达到的目标24-25

3 PECVD制备单层光学薄膜工艺技术探讨25-36

3.1 高折射率薄膜制备工艺技术探讨25-29

3.

1.1 工艺选择及技术浅析25-26

3.

1.2 制备SiNx:H薄膜实验26-29

3.

1.3 小结29

3.2 低折射率薄膜制备工艺技术探讨29-36
3.

2.1 沉积SiOxFy的基本原理30-31

3.

2.2 SiOxFy薄膜制备工艺探讨31-33

3.

2.3 SiOxFy薄膜制备工艺优化33-35

3.

2.4 小结35-36

4 膜系设计36-67

4.1 光学薄膜设计基础36-42

4.

1.1 光在均匀介质中的传播36-41

4.

1.2 光在渐变折射率介质中的传播41-42

4.2 膜系设计基本策略42-59
4.

2.1 传统宽带增透膜系设计理念42-45

4.

2.2 渐变折射率薄膜傅立叶变换设计策略45-46

4.

2.3 遗传算法设计渐变折射率薄膜46-51

4.

2.4 混合型渐变折射率薄膜膜系设计策略51-57

4.

2.5 褶皱滤光片膜系设计理念57-59

4.3 超宽带增透膜系设计案例59-67
4.

3.1 needle优化HL案例59-60

4.3.2 遗传算法优化论文导读:案例60-614.3.3傅立叶变换算法案例61-634.3.4超宽带hybrid膜系设计63-675超宽带增透膜的制备67-745.1PECVD材料选取68-695.2混合渐变宽带增透膜的镀制69-705.2.1工艺参数设置695.2.2薄膜测试结果69-705.3五次匹配层薄膜的镀制70-715.3.1工艺参数设置705.3.2薄膜测试结果70-715.4G|

1.52→97|8→4|4→97|

HLHL案例60-61
4.

3.3 傅立叶变换算法案例61-63

4.

3.4 超宽带hybrid膜系设计63-67

5 超宽带增透膜的制备67-74

5.1 PECVD材料选取68-69

5.2 混合渐变宽带增透膜的镀制69-70

5.

2.1 工艺参数设置69

5.

2.2 薄膜测试结果69-70

5.3 五次匹配层薄膜的镀制70-71
5.

3.1 工艺参数设置70

5.

3.2 薄膜测试结果70-71

5.4 G|

1.52→97|8→4|4→97|L|Air混合渐变超宽带增透膜的镀制71-73

5.

4.1 工艺参数设置71

5.

4.2 薄膜测试结果71-73

5.5 小结73-74
6 结论74-76

6.1 结论74

6.2 展望74-76

参考文献76-80
攻读硕士学位期间发表的论文80-81
致谢81-83